Princip i karakteristike Magnetronskog raspršivanja

Princip i karakteristike magnetronskog raspršivanja

Tehnologija magnetronskog raspršivanja razvijena je na osnovu tehnologije bipolarnog raspršivanja. Uspostavljanjem magnetskog polja koje je ortogonalno električnom polju na površini mete za raspršivanje, elektroni se ubrzavaju električnim poljem i vezuju Lorentzovom silom magnetskog polja, tako da se njihova putanja kretanja mijenja iz prvobitne prave u cikloida. Produženjem putanje elektrona, vjerovatnoća sudara između elektrona i molekula plina može se povećati, tako da se brzina ionizacije plina znatno poboljša, a zatim će se povećati ioni visoke energije koji bombardiraju metu, a brzina raspršivanja mete takođe će se povećati. Zbog stalnog sudara elektrona sa molekulama gasa u procesu kretanja, energija elektrona je značajno smanjena nakon višestrukih sudara, a koncentracija elektrona blizu površine matrice daleko od magnetnog polja je niska, pa je temperatura porast uzrokovan padanjem elektrona u matricu nije očit. Ovo je glavni razlog zašto tehnologija magnetronskog raspršivanja može postići taloženje tankih filmova "niskom temperaturom" i "velikom brzinom".

IKS PVD firma, mašina za dekorativno premazivanje, alatna mašina za premazivanje, DLC mašina za premazivanje, mašina za optičko premazivanje, PVD vakuumska linija za premazivanje, projekat po sistemu ključ u ruke je dostupan. Kontaktirajte nas sada, E-mail: iks.pvd@foxmail.com