Naš nezavisni istraživač i razvijen 160mm veliki izvor luka se nalazi u otklanjanju grešaka

Danas, naš nezavisno istražen i razvijen 160mm veliki luk izvor je u debugging. U poređenju sa prethodnim izvorima luka od 100 mm, ovaj veliki izvor luka može jednako iščitati cilj i značajno poboljšati brzinu jonizacije ciljnog materijala u postupku premaza. Sa nezavisnim imovinskim pravima, 160mm veliki luk izvori obezbeđuju brzo formiranje filma, izuzetno glatki film i odličnu adheziju. Istovremeno, problem većih čestica u filmu koji je pokriven malog izvora luka može se rešiti, a film obložen velikim lukom od 160 mm će biti vrlo glatko i osjetljivo.

Nakon debagovanja, novi izvor luka će se zvanično primijeniti na našu alatnu multi-arc ion vakuumsku premazu, primjena ovog 160mm velikog izvora luka će značajno poboljšati performanse i kvalitet premaza naše alatne PVD mašine za presvlačenje, a zatim dati veću korist korisnicima . Uspješan razvoj 160mm velikih izvora luka je još jedna prekretnica naše kompanije da samostalno istražujemo i razvijemo vakuumsku opremu. U budućnosti ćemo dodatno unaprijediti naše istraživačko-razvojne mogućnosti i doprinijeti razvoju preduzeća i napretku tehnologije vakuumskog premaza.