Utjecaj parametara procesa raspršivanja magnetronom: negativna predrasuda matrice
Sep 10, 2024| Utjecaj parametara procesa magnetronskog raspršivanja: negativna pristranost matrice
Negativna pristranost omogućava ionima da bombardiraju rastući film pod djelovanjem ubrzanog električnog polja. Na mikrostrukturu i mehanička svojstva (Cr, Ti, Al) N kvaternarnih premaza može uticati promjenom energije i količine jona koji dospiju do površine supstrata podešavanjem negativnog pristrasnosti supstrata. Istraživači su otkrili da se sila vezivanja (Cr,Ti,Al) N prevlake na podlozi prvo povećava, a zatim smanjuje s povećanjem negativnog odstupanja supstrata. To je zato što s povećanjem negativnog pristranog pritiska povećava se energija koju daje ionsko bombardiranje filma, što povećava propusnost atoma filma na površinu supstrata, i na taj način formira snažnu silu vezivanja između filma i supstrata. Međutim, kada se negativna pristranost dodatno poveća, bombardiranje visokoenergetskih jona na film će proizvesti veliko zaostalo naprezanje u premazu, što će oslabiti prianjanje filma na matricu. Istraživači su također otkrili da negativna pristranost uglavnom utječe na otpornost na habanje (Cr, Ti, Al) N premaza promjenom sile vezivanja na bazi filma. Što je bolja sila vezivanja (Cr,Ti,Al) N premaza na bazi filma, to je manja stopa habanja i duže vrijeme otpornosti na habanje.
IKS PVD firma, mašina za dekorativno premazivanje, alatna mašina za premazivanje, DLC mašina za premazivanje, mašina za optičko premazivanje, PVD vakuumska linija za premazivanje, projekat po sistemu ključ u ruke je dostupan. Kontaktirajte nas sada, E-mail: iks.pvd@foxmail.com