Pregled HiPIMS tehnologije

Magnetna tehnologija raspršivanja se široko koristi u oblasti pripreme tankog filma. Primjene ukrasnog premaza i prevlaka alata su relativno česte.

Međutim, tehnologija obrade prljavštine magnetron ima mnogo ograničenja. Na primer, kada je struja raspršivanja velika, što znači da je gustina snage magnetronske municije ograničena ciljanom toplotnom opterećenju, bombardovanje mete sa prekomernim pozitivnim jonima može dovesti do pregrevanja i gašenja cilindra. Pored toga, ima i nedostatke ograničene energije prskanja i niske količine metala jonizacije.

Poslednjih godina, u zemlji i inostranstvu razvijena je tehnologija visoke impedivne magnetronske sputtering tehnologije (HiPIMS), a ovo ograničenje je znatno oslabljeno. Maksimalna snaga impulsnog magnetronskog sputera visoke snage je oko 100 puta veća od običnih magnetronskih sputera. Brzina jonizovanja sprata materijala je izuzetno visoka, a ovaj visoko ionizovani zrak ne sadrži velike čestice. Dakle, visokokvalitetni film lako se može dobiti pomoću HiPIMS tehnologije.

S obzirom da je vrijeme impulsnog dejstva u roku od nekoliko stotina mikrosekundi, prosječna snaga HiPIMS-a je uporediva sa prosečnom magnetronskom raspršivanjem, tako da se ne povećava potreba za hlađenjem cilja magnetona. Iako je trenutna snaga impulsnog magnetron sputtera visoke snage visoka, njegova prosječna snaga nije visoka, tako da se može široko koristiti.