Karakteristike PVD nanokoatiranja
May 22, 2019| Karakteristike PVD nanokotiranja
Postoje tri osnovne metode za fizičko nanošenje pare nano-premaza: vakuumsko isparavanje, prskanje i taloženje iona. Vakuumsko isparavanje je da ispari izvorni materijal u čestice (atome ili ione) pomoću elektronskog grijanja, laserskog zagrijavanja, itd. i zatim ih odložiti na površinu izratka kako bi se dobila prevlaka. Premaz ima relativno više pora, koje imaju opštu adheziju sa supstratom. Raspršivanje oplata uzima radni komad kao anodu i metu kao katodu. Argonski ion generiran argonskom ionizacijom koristi se za ispuhivanje ciljnih atoma i njihovo taloženje na površinu obratka. Premaz ima manje pora i dobro se kombinira sa podlogom. Ioniranje se vrši u atomima isparavanjem, prskanjem ili kemijskim metodama i ionizira se plazmom oko podloge. Pod djelovanjem električnog polja, premaz se formira leteći na podlogu s većom kinetičkom energijom. Premaz je ravnomeran i gust, u osnovi nema pora i dobro je kombiniran sa podlogom.
Nanofilmovi titanijum oksida pripremljeni su dc magnetron sputteringom. Pritisak komore za raspršivanje je pumpan na 1,3 10-4pa, a zatim napunjen sa Ar, O2 i CF4, ukupni pritisak je bio 1.3pa (količina injekcije je kontrolisana tokom prskanja). Debljina filma je pod konstantnim naponom raspršivanja (700 v) da bi se promijenili uvjeti kontrole raspršivanja, kontrola temperature osnovne ploče raspršivanja u 100 ~ 400 ℃ . Elektrokromne karakteristike su nađene u LiC1O4 i propilen karbonatu. Međutim, površina filma je pod uticajem gasa i naelektrisanih čestica, a učinak filma je u velikoj mjeri pod utjecajem stanja plazme, a stanje prskanja nije lako strogo kontrolirati, što je i njegov najveći nedostatak.
Kako bi se dodatno poboljšao kvalitet nano-premaza, razvijene su razne napredne PVD tehnologije i izvedene kombinacijom različitih tehnologija. Razne tehnike magnetronskog raspršivanja razvijene su uvođenjem magnetnog polja u tehniku prskanja kojom dominira električno polje. U cilju jačanja hemijskog procesa formiranja filma, reaktivni plin je uveden u proces isparavanja, raspršivanja i ionskog oplate, pa je tako nastala reaktivna tehnologija isparavanja, tehnologija reaktivnog prskanja i tehnologija jonske obrade. Pored toga, postoje lasersko taloženje pulsa (PLD), magnetronsko raspršivanje (MSPLD), jonizacijsko magnetno raspršivanje (ionizacijsko-magnetni raspršivanje), epitaksija molekularnog snopa (MBE), migracijski rast i druge nove membrane.
Može se vidjeti da s razvojem znanosti i tehnologije, granica između CVD i PVD nije jasna, i da se ta dva sloja međusobno prožimaju, čineći dvije tehnologije za pripremu premaza savršenijom.
IKS PVD coating dekorativni premazni stroj ， alat za premazivanje alata ： kontakt: iks.pvd@foxmail.com
