hemijsko taloženje pare (CVD)

hemijsko taloženje pare (CVD)

Hemijsko taloženje pare (CVD) je proces koji stvara čvrste naslage reakcijom supstanci u gasovitom ili parnom stanju na granici gas-faza ili gas-čvrsto stanje. Hemijsko taloženje pare (CVD) je nova tehnologija razvijena posljednjih desetljeća za pripremu neorganskih materijala. Kemijsko taloženje pare se široko koristi za pročišćavanje supstanci, pripremu novih kristala i taloženje različitih monokristalnih, polikristalnih ili staklastih neorganskih filmskih materijala. Ovi materijali mogu biti oksidi, sulfidi, nitridi, karbidi ili binarni ili sveti elementarni međuelementni spojevi u grupama III-V, II-IV, IV-VI, a njihove fizičke funkcije mogu se precizno kontrolirati procesima taloženja dopiranog plinom.
Proces hemijskog taloženja pare podijeljen je u tri važne faze: difuzija reaktivnog plina na površinu matrice, adsorpcija reaktivnog plina na površinu matrice, formiranje čvrstog sedimenta kemijskom reakcijom na površini matrice i odvajanje gasoviti nusproizvodi sa površine matriksa. Najčešće reakcije hemijskog taloženja iz pare su reakcije termičke razgradnje, reakcije hemijske sinteze i reakcije hemijskog transporta.

IKS PVD firma, mašina za dekorativno premazivanje, alatna mašina za premazivanje, DLC mašina za premazivanje, mašina za optičko premazivanje, PVD vakumska linija za premazivanje, projekat po sistemu ključ u ruke je dostupan. Kontaktirajte nas sada, E-mail:iks.pvd@foxmail.com