Primjena isparavanja snopa elektrona

Primjena isparavanja elektronskih snopa - priprema TiO 2 filma isparavanjem elektronskih zraka

Princip prevlake isparavanjem elektronskih zraka za pripremu filma TiO 2 , koristeći automatski sistem optičkog prevlačenja INTEGRITY-39 s isparavanjem elektronskih snopa potpomognut ionskom snopom, kao što je prikazano na donjoj slici.

0010010 nbsp; 1. Dovod vode za hlađenje; {{2}}. Izlaz za rashladnu vodu; 3. Crucible; 4. Zračna zavojnica; 5. Elektronski odašiljač snopa; 6. Grejna lampica; 7. Okvir supstrata; 8. Motor; 9. Film za praćenje; 1 0. Radni napon uzoraka elektronskog pištolja pripremljenog pomoću oplate jonskih izvora je 1 0 kV, struja je {{2}} 00 A, a temperatura taloženja u vakuumskoj komori je 1 45 ~ 1 55 ℃. Crni zrnati Ti 2 O 3 čistoće od 9 9. 99% je odabran za materijal membrane. Cc - 1 05 hladna katodna jonska greda korišćena je za pomoćno taloženje. Za vreme taloženja vakuumska komora se napunila sa O 2 čistoćom od 9 9. 99% kao reakcioni gas. Prije nanošenja podloga se očisti staklenom otopinom, ispere s deioniziranom 0010010 nbsp; voda, a dušnik osušen. Zatim se supstrat očisti 99. 9% acetonom i bezvodnim etanolnim ultrazvučnim talasom za 15 min svaki. Nakon sušenja posebnim papirom za brisanje, stavlja se u vakuumsku komoru. Kada se vakuum pumpi na {{5}}. 5 × 10-4pa mehaničkom pumpom i difuzijskom pumpom, postavlja se postupak automatskog poliranja. Kada se supstrat zagreva na temperaturu taloženja od 1 5 0 ℃, izvor jona počinje bombardirati supstrat, a energija se kontroliše na {{5}} 0 ~ 9 0 eV za 10 min.

tada se elektronski pištolj automatski pokreće sa zagrevanjem i isparavanjem filmskog materijala, a stopa taloženja iznosi 0. 38 ~ 0. 42 nm / s. Kada se film nanese na konstrukcijsku debljinu od 440 nm, program automatski zatvara elektronski pištolj i oblaganje je završeno. Nakon nanošenja vakuumska komora je prirodno ohlađena do sobne temperature, a uzorak je uzet. Spektralno ispitivanje uzorka TiO 2 provedeno je s Lambda 900 (opseg ispitivanja 175 ~ 3 300 nm) spektrofotometrom. Stvarna debljina, koeficijent izumiranja i indeks loma TiO 2 filma izračunati su metodom Macleod softverske ovojnice. Učinci različitih stupnjeva vakuuma na kvalitetan filmy, indeks loma i koeficijent apsorpcije TiO 2 su proučavani sa različitim protocima kisika visoke čistoće u vakuumsku komoru. Kada se TiO 2 tanki film taloži isparavanjem potpomognutim izvorom jona pri visokom stepenu vakuuma, promena stepena vakuuma sa prolazom kiseonika navedena je u sledećoj tabeli. Kako su molekuli kiseonika u vakuumskoj komori jonizirani u jone kiseonika i potpuno reagiraju sa Ti {{2}} O 3 molekulama pare, kisik se izgubio pri raspadanju Ti {{{{4} }}} O 3 se puni, a rezultirajući TiO 2 u filmu je relativno čist. Međutim, ako je opskrba kisikom nedovoljna ili je reakcija između Ti {{2}} O 3 i O 2 nedovoljna, film visokog apsorpcije titanovog oksida tino {{{{ 4}}}} n - 1 (n=1, {{2}}, ..., 1 0). S povećanjem protoka kisika povećava se vjerojatnost sudara između TiO 2 molekula para i molekula kisika u procesu povećanja isparavanja i gubi se energija, što smanjuje kinetičku energiju TiO 2 taloženu na supstranu površina i utječe na prijanjanje i zgušnjavanje nanesenog filma. Za optičke tanke filmove pomoć izvora iona može povećati kinetičku energiju molekula na površini podloge, ne samo da ima značajan utjecaj na indeks loma filma, već također može poboljšati gustoću filma i otpornost na vlagu, a film adhezija na podlozi se takođe značajno poboljšava.

IKS-OPT2700 optical E-gun vacuum coating machine，more details,contact: iks.pvd@foxmail.com